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东南大学科研团队发表SiC MOSFET有源驱动电路的研究科学论文

时间:2025-03-19 12:20:19

进控制器一个点呢?东南大学电器研究生院的深入研究工作人员根据现有文献资料,从工作原理、操纵旨在、晶体管代数等上都不止发,归纳整理了针对SiC MOSFET一个点改进的AGD晶体管相关技术开发,在精度上都透过了对比,说明AGD建议的新设计程序,并讨论了未来AGD晶体管演进的急遽。

他们指不止,宽度禁带半导体的非同器件马达的相关深入研究现有仍处于起步期中。与应用于IGBT的AGD晶体管相类似,基于控制器一个点改进的SiC MOSFET非同马达晶体管未来演进急遽与技术开发难题主要有或多或少:

1)优点复化

随着SiC元件的逐步推动,对于马达晶体管的承诺也逐步升高。却是某一种类同型的非同马达并不能更好地对SiC MOSFET控制器瞬态透过多角度的提升。将高热保护、串扰可抑制等其他优点设为基于控制器一个点改进的AGD晶体管带入必然承诺,多优点AGD马达体系结构如平面图1下图。如何对于大量的预设晶体管透过分时构建,进而简化新设计、下降生产成本是技术开发难点。

平面图1 多优点AGD马达体系结构

2)操纵更新

操纵稳定性上都,SiC MOSFET跨导与结电容都有著极佳的非线性特征,并且控制器源马达下的SiC MOSFET的响应优点是比较简单的高阶数学方程。同时,阈值切换同型AGD晶体管本质上仅指一种非线性的闭环操纵,无法使用同类型闭环同型AGD中伯德平面图、根一个点等分析工具来深入研究操纵该系统的稳定性。现有,对于SiC MOSFET控制器暂态的建模工作仍在透过之中。

操纵精度上都,SiC MOSFET的控制器一个点随着工作控制器、增益电压的波动而波动,这对于AGD晶体管控制器一个点改进的效果产生一定的影响:一上都,AGD的暂态定位点有意味著产生一定的偏差,功率放大晶体管的手势意味著产生有所突破或滞后;另一上都,SiC MOSFET漏源控制器的超调衰减随着增益电压的增大而恶化,在通气匹配相对固定的意味著,AGD晶体管意味著在货物运输时发生失效,在轻载人口为120人则会造成多余的控制器缺点。

现有,基于控制器一个点改进的AGD晶体管的动态通气技术开发还极少媒体报道。有汉学家提不止了基于代价函数的在线匹配并不需的AGD语义处理体系结构,如平面图2下图。该方法可以大幅大幅提高AGD的操纵精度,通过设置权重因子做到对于did/dt、dv/dt、Esw等多个指标的折中操纵,但是操纵器迭代反应速度、迭代算法可取以及嵌入式生产成本带入需进一步消除的关键问题。

平面图2 基于代价函数的在线同型AGD

响应带宽度上都,随着高精度虚拟、数字元件技术开发的进步,越发高的响应反应速度得以应用于SiC MOSFET的ns级操纵。高频数字信号交互所助长的信号完整关键问题、迭代增益增益带宽度积与压摆率的减至,以及预设元件整体新设计作法有待深入深入研究。

3)嵌入式内嵌与生产成本也就是说

AGD晶体管最终的市场化需要缩小截面积、下降生产成本,并以单片的形式推荐给用户。平面图3说明了有关文献资料中AGD晶体管的生产成本分布。平面图中,虚拟内嵌晶体管与可编程语义元件是制约AGD市场化的主要因素。在晶体管内嵌上都,数字晶体管的内嵌化易于做到,而如比较器、DAC、Buffer等虚拟晶体管的内嵌则比较简单得多,对于SiC MOSFET控制器暂态的电子元件也越发为敏感。另外,辅助控制器的个数也需加以操纵。进一步简化预设非同晶体管是未来AGD的演进急遽。

平面图3 AGD的生产成本分布

深入研究工作人员终于表示,随着宽度禁带元件马达技术开发的不断演进,基于SiC MOSFET控制器一个点改进的非同器件马达技术开发不合乎巨大的深入研究价值与广阔的应用空间内。

本文编自2022年第10期《电器技术开发学刊》,论文结尾为“基于控制器一个点改进的SiC MOSFET非同马达晶体管深入研究综述”。本课题得到了国家自然科学基金相当程度捐助项旨在支持。

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